Категория: Источники питания плазмотронов

Источники питания для плазменных установок, плазмотронов до 1000кВт. Источники для технологических установок плазменной газификации отходов, пиролиза, ректификации.

Источник питания магнетрона распыления ИПМ-3

  

Источник питания магнетрона ИПМ-3 предназначен для питания магнетронов непрерывного действия. В состав источника входят блок питания накала и блок управления питанием магнита. Также благодаря системе дугогашения магнетрон не подвержен воздействию стрессовых значений питания. Технические характеристики: 1. Диапазон регулирования мощности 0.1-3.5 кВт с возможностью плавной установки значений или с шагом 100Вт… Read more »

Источники питания плазмотронов серии (СПТП)

  

Статические преобразователи тока плазмотрона (СПТП) – программируемые источники питания плазматронов плазменных технологических установок, удовлетворяющий специфическим требованиям. Плазмотрон, как нагрузка, представляет собой сложную нелинейную нагрузку и предъявляет особые требования к источнику питания. Критичным параметром является очень малая инерционность плазменного разряда (единицы – десятки микросекунд). Источник питания должен обладать жесткой характеристикой источника… Read more »

Источник питания установки роста углеродных нано-структурированных автоэмиттеров СПП-30К

  

Источник питания разрядного промежутка установки для роста углеродных нано- структурированных автоэмиттеров на подложках различной геометрии (СПП-30К) должен обеспечивать поджиг и поддержание плазмы разряда постоянного тока, стабилизацию заданного рабочего тока в каждом канале во всем рабочем диапазоне, гальваническую развязку входных цепей питания от выходных. Технические характеристики Технические параметры Ед. изм. /… Read more »

Источник питания тлеющего разряда установки плазмохимического осаждения «СПП-29К»

  

Источник питания тлеющего разряда СПП-29К установки плазмохимического осаждения предназначен для преобразования переменного трехфазного напряжения промышленной сети в постоянный ток. Технические характеристики Технические параметры Ед. изм. / Описание Значение параметров Напряжение питающей сети В 380+10%-10% 3ф Частота напряжения сети Гц 50+/-1 Количество выходных каналов шт. 29 Регулировка тока каждого канала мА… Read more »

Источник питания «ИП-3МГ» для многомагнетронной СВЧ установки плазмохимического осаждения

  

Источник питания «ИП-3МГ», предназначен для преобразования переменного трехфазного напряжения промышленной сети в постоянный и генерации тока заданной формы, для питания магнетронов установки плазмохимического осаждения углеродных алмазоподобных пленок. Технические характеристики Технические параметры Ед. изм. / Описание Значение параметров Напряжение питания В 380+/-10% Частота питающей сети Гц 50+/-1 Количество выходных каналов шт… Read more »

Статические преобразователи тока для плазмотронных генераторов

  

Для плазменных технологических установок предлагаются программируемые источники питания, соответствующие специфическим свойствам плазмотронных генераторов,представляющих сложную нелинейную нагрузку  с очень малой инерционностью плазменного разряда (единицы – десятки микросекунд). Источники питания обладают жесткой характеристикой источника тока, повышая устойчивость горения дуги плазменного разряда в электрохимических технологических установках , где по сравнению с установками для… Read more »