Monthly Archives: Январь 2016

Источник питания установки роста углеродных нано-структурированных автоэмиттеров СПП-30К

  

Источник питания разрядного промежутка установки для роста углеродных нано- структурированных автоэмиттеров на подложках различной геометрии (СПП-30К) должен обеспечивать поджиг и поддержание плазмы разряда постоянного тока, стабилизацию заданного рабочего тока в каждом канале во всем рабочем диапазоне, гальваническую развязку входных цепей питания от выходных. Технические характеристики Технические параметры Ед. изм. /… Read more »

Источник питания для магнетронной распылительной системы ИПМ-80

  

ИПМ-80 — источник питания магнетронов предназначен для питания магнетронной распылительной системы. Источник работает в составе установки бескапельного магнетронного осаждения упрочняющих покрытий.