На протяжении последних лет коллективом накоплен большой опыт в использовании магнитных усилителей и дросселей насыщения в звене высокой частоты,имеющих параметрические свойства естественного токоограничения, применение этих электромагнитных элементов в статических преобразователях вторичных источников питания стало символом надежности и долговечности.
Разработанные схемотехнические решения в сочетании с современной полупроводниковой базой силовых элементов, высокими показателями современных аморфных магнитных сплавов (малые потери на высокой частоте, возможность создания запаса по индукции, высокая магнитная проницаемость), использование управляющих контроллеров позволили достичь хороших массогабаритных показателей, электромагнитную совместимость с питающей сетью, защиту от внешних и внутренних коротких замыканий в преобразователях, длительный режим работы, обеспеченный высоким кпд.
Предлагаемые источники-программируемые, с местным сенсорным управлением и возможностью управления как с помощью компьютера так и мобильных устройств (планшет,телефон), статические преобразователи являются источниками тока,напряжения с мощностями от единиц Вт до сотен кВт с выходом на постоянном и переменном токе(напряжении), точностью поддержания выходных параметров и стабильностью до 0.003%,имеют естественное,принудительное воздушное или жидкостное охлаждение в зависимости от мощности и условий эксплуатации.
Диапазон напряжений: от единиц вольт до 1000 кВ
Область применения:
- Нанотехнологии
- Электролиз
- Гальваника
- Водоочистка
- Уничтожение опасных отходов
- Плазменная газификация
- Строительство
- Флот: замена электромашинных преобразователей
- Электрохимия в газовых средах: многоканальные источники тока для выращивания наноструктур, источники для магнетронов и технологий магнетронного распыления
- Источники питания мощных плазмотронов
- В ядерной физике: питание мощных электромагнитов ускорителей
- Питание высокоинтенсивных источников света в импульсном режиме
- Лазерная техника: зарядка конденсаторов, работающих в импульсном режиме
- Электронно-лучевые технологии — питание разрядных камер электронных пушек с плазменным катодом с высоковольтной развязкой до 150 кВ
- Электроразрядные и ионно-пучковые технологии
- Электродуговая плавка металлов
Одни из последних разработок:
- Тридцати канальный источник тока 15-250 мА. Umax=1300B для выращивания наноструктур
- Многомагнетроннй регулируемый импульсный источник тока для выращивания наноструктур. НИИ ЯФ МГУ
- Источники тока для электродугового плазматрона. Ток дуги 10-300 А, мощность 100кВт, Институт металлургии и материаловедения им.А.А.Байкова РАН, ООО»Экоплазма»,г.Москва
- Источник тока для электролиза (получение гипохлорида). 24В 300А,г. Санкт-Петербург, г.Новосибирск, ЛПК г.Лесосибирск,Красноярский край
- Источник питания электродуговой печи постоянного тока 800А,200В,г.Королев,Моск.обл
- Регулируемый источник постоянного тока 500A, 45B, стабильность тока-0.05% для поворотного магнита линейного ускорителя ИЯИ РАН г.Москва
- Регулируемый источник постоянного тока 150А,60В,стабильность тока-0,003%,пульсация тока-0,037% для магнитной отклоняющей системы ускорителя «Везувий»,г.Великий Новгород
- Источник для установки магнетронного распыления МАП-3.Uхх=1000В,Imax=200A,ВИАМ,г.Москва